エレクトロニクス材料・技術シリーズ 豊田浩一 岡崎信次 シーエムシー出版イーユーヴイ コウゲン ノ カイハツ ト オウヨウ トヨダ,コウイチ オカザキ,シンジ 発行年月：2007年02月 ページ数：273p サイズ：単行本 ISBN：9784882316664 豊田浩一（トヨダコウイチ） 技術研究組合極端紫外線露光システム技術開発機構顧問、（独）理化学研究所名誉研究員 岡崎信次（オカザキシンジ） 技術研究組合超先端電子技術開発機構EUVプロセス技術研究部部長（本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです） 第1編 EUV光源の開発（露光装置とEUVリソグラフィ／EUVリソグラフィ用光源プラズマ／プラズマ励起用高出力固体レーザー開発の現状／究極の変換効率の超微粒子広域分散型ターゲットレーザー生成プラズマX線源 ほか）／第2編 EUVリソグラフィ用のマスクとレジスト技術（X線多層膜の物理／EUV用反射型マスク基板／EUV用マスク／EUVレジストの特異性と反応機構 ほか） 本 科学・技術 工学 電気工学
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 エレクトロニクス材料・技術シリーズ 佐野芳明 奥村次徳 シーエムシー出版コウシュウハ ハンドウタイ ザイリョウ デバイス ノ シンテンカイ サノ,ヨシアキ オクムラ,ツグノリ 発行年月：2006年11月 ページ数：266p サイズ：単行本 ISBN：9784882315827 佐野芳明（サノヨシアキ） 沖電気工業（株）研究開発本部主幹研究員 奥村次徳（オクムラツグノリ） 首都大学東京大学院理工学研究科電気電子工学専攻教授（本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです） 展望 高周波利用のゆくえ、デバイスの位置づけ（高周波半導体材料の変遷／デバイスおよび回路設計技術の展望）／第1編 化合物半導体基板技術（GaAs基板／SiC基板／新材料系基盤）／第2編 結晶成長技術（3ーV族化合物成長技術／3ーN化合物成長技術／Smart Cut TMによるウェーハ貼り合わせ技術）／第3編 デバイス技術（3ーV族系デバイス／3族窒化物系デバイス／シリコン系デバイス／テラヘルツ波半導体デバイス） 最先端の技術開発を担う多数の研究者の協力を得て、材料技術からデバイス作製技術までの最新動向を一冊にまとめ、第一線、及び関連の研究者、技術者への便宜を図ることを本書の狙いとしている。
本 科学・技術 工学 電気工学
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面谷信 シーエムシー出版デジタル ペーパー ノ サイシン ギジュツ オモダニ,マコト 発行年月：2001年11月 ページ数：220p サイズ：単行本 ISBN：9784882313335 本 科学・技術 工学 電気工学
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エレクトロニクスシリーズ 畠山賢一 蔦岡孝則 シーエムシー出版サイシン デンパ キュウシュウタイ セッケイ オウヨウ ギジュツ ハタケヤマ,ケンイチ ツタオカ,タカノリ 発行年月：2008年12月 ページ数：324p サイズ：単行本 ISBN：9784781300740 畠山賢一（ハタケヤマケンイチ） 兵庫県立大学大学院工学研究科電気系工学専攻教授 蔦岡孝則（ツタオカタカノリ） 広島大学大学院教育学研究科自然システム教育学講座教授 三枝健二（サエグサケンジ） 日本大学理工学部電子情報工学科准教授（本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです） 第1章 電波吸収体の歴史、最近の動向と分類／第2章 電波吸収体材料／第3章 電波吸収体設計法／第4章 電波吸収体評価法／第5章 電波吸収体研究開発の最新動向／第6章 電波吸収体の応用、実用化例 本 科学・技術 工学 電気工学
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ご注文前に必ずご確認ください＜商品説明＞＜アーティスト／キャスト＞石井克典(演奏者)＜商品詳細＞商品番号：NEOBK-2412203Ishi Katsunori / Kanshu / IoH Wo Shiko Suru Kanjo Shiko Sen Shingu Gijutsu (Electronics Series)メディア：本/雑誌発売日：2019/08JAN：9784781314303IoHを指向する感情・思考センシング技術[本/雑誌] (エレクトロニクスシリーズ) / 石井克典/監修2019/08発売
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エレクトロニクスシリーズ 大森裕 シーエムシー出版ユウキ ハクマク ケイセイ ト デバイス オウヨウ テンカイ オオモリ,ユタカ 発行年月：2008年01月 ページ数：255p サイズ：単行本 ISBN：9784882319856 大森裕（オオモリユタカ） 大阪大学先端科学イノベーションセンター教授（本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです） 第1章 有機薄膜技術総論（有機薄膜の作製法／有機デバイス作製への適用例）／第2章 ドライプロセスによる薄膜形成技術とデバイス応用（真空蒸着法を利用した有機EL素子作成／蒸着法による有機トランジスタの作製と評価 ほか）／第3章 ウェットプロセスによる薄膜形成技術とデバイス応用（スピンコート法による有機EL作製／スピンコート法による有機トランジスタ作製 ほか）／第4章 薄膜形成評価（水晶振動子を用いた薄膜評価／MDCとSHGによる評価 ほか）／第5章 新しい薄膜形成技術（アモルファス分子材料／有機溶媒に可溶な炭素材料 ほか） 本 科学・技術 工学 電気工学
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エレクトロニクスシリーズ 坂本正典 シーエムシー出版セイヒン コウ フカ カチカ ノ タメノ エレクトロニクス ザイリョウ サカモト,マサノリ 発行年月：2009年03月 ページ数：295p サイズ：単行本 ISBN：9784781300900 坂本正典（サカモトマサノリ） 東京理科大学大学院総合科学技術経営研究科技術経営専攻教授（本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです） 第1章 エレクトロニクス機器高付加価値化の展望／第2章 透明性樹脂／第3章 放熱性樹脂／第4章 耐熱性樹脂／第5章 耐久性樹脂／第6章 バイオマス樹脂／第7章 無機及び複合材料 本 科学・技術 工学 電気工学
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エレクトロニクスシリーズ 半導体新技術研究会 早瀬仁則 シーエムシー出版サイセンタン コウミツド ハイセン ドウメッキ ギジュツ ハンドウタイ シンギジュツ ケンキュウカイ ハヤセ,マサノリ 発行年月：2009年11月 ページ数：273p サイズ：単行本 ISBN：9784781301433 早瀬仁則（ハヤセマサノリ） 東京理科大学理工学部准教授（本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです） 第1章 半導体デバイス用めっき表面処理技術の重要性／第2章 めっきの基礎と歴史／第3章 半導体パッケージのめっき技術／第4章 ウエハ上への銅めっき技術／第5章 プリント基板用めっき技術／第6章 機能性銅めっき適用事例 本 科学・技術 工学 電気工学
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エレクトロニクスシリーズ 山本貴尋 シーエムシー出版ティーエスヴイ オ チュウシン ト スル エスアイピー ノ サイシン ギジュツ ト ヤマモト,タカヒロ 発行年月：2010年03月 ページ数：258p サイズ：単行本 ISBN：9784781302232 山本貴尋（ヤマモトタカヒロ） テクニカルコンサルタント（本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです） 第1章 TSV（シリコン貫通電極）の技術開発動向（ビアエッチング技術／ビア充填技術 ほか）／第2章 フリップチップの技術開発動向（現状の技術開発動向／技術開発動向と予測）／第3章 Package on Packageの技術開発動向（現状の技術開発動向／技術開発動向と予測）／第4章 部品内臓基板の技術開発動向（現状の技術開発動向／技術開発動向と予測） 本 科学・技術 工学 電気工学
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エレクトロニクスシリーズ 森健彦 長谷川達生 シーエムシー出版ユウキ トランジスタ ザイリョウ ノ ヒョウカ ト オウヨウ モリ,タケヒコ ハセガワ,タツオ 発行年月：2008年07月 ページ数：233p サイズ：単行本 ISBN：9784781300269 森健彦（モリタケヒコ） 東京工業大学大学院理工学研究科物質科学専攻教授 長谷川達生（ハセガワタツオ） （独）産業技術総合研究所光技術研究部門研究グループ長（本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです） 第1編 材料（低分子材料1（低分子p型トランジスタ用材料）／低分子系材料2 ほか）／第2編 プロセス（キャリア注入とambipolar化／接触抵抗 ほか）／第3編 測定技術と評価方法（薄膜構造解析／有機トランジスタ中の電子スピン ほか）／第4編 新デバイス（発光トランジスタ／電気二重層トランジスタ ほか） 本 科学・技術 工学 電気工学
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ご注文前に必ずご確認ください＜商品説明＞＜商品詳細＞商品番号：NEOBK-1390642Miyasaka Tsutomu / Kanshu / Trends in Advanced Sメディア：本/雑誌発売日：2012/10JAN：9784781306209Trends in Advanced S[本/雑誌] (単行本・ムック) / 宮坂力/監修2012/10発売
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エレクトロニクスシリーズ 渡辺敏行 魚津吉弘 シーエムシー出版コウガク ザイリョウ ノ クッセツリツ セイギョ ギジュツ ノ サイゼンセン ワタナベ,トシユキ ウオズ,ヨシヒロ 発行年月：2009年04月 ページ数：326p サイズ：単行本 ISBN：9784781300931 渡辺敏行（ワタナベトシユキ） 東京農工大学大学院共生科学技術研究院教授 魚津吉弘（ウオズヨシヒロ） 三菱レイヨン（株）東京技術・情報センターアソシエイトリサーチフェロー（本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです） 第1編 基礎理論（基礎理論1 フォトニクスの基礎／基礎理論2 光学ポリマーの屈折率制御・高透明化・エイジング ほか）／第2編 光学特性計測方法（屈折率測定法／複屈折の発現機構 ほか）／第3編 屈折率精密制御（プラスチック光ファイバー／量子化学計算に基づく屈折率と波長分散の予測技術 ほか）／第4編 光学材料の特性・開発状況（材料・素材／用途展開・製品）／第5編 ナノテクノロジーを利用した屈折率制御と新規光学デバイス（ナノフォトニクスデバイス〜複屈折コントラスト近接場顕微鏡による観測／プラズモニック・メタマテリアル ほか） 本 科学・技術 工学 電気工学
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ご注文前に必ずご確認ください＜商品説明＞＜商品詳細＞商品番号：NEOBK-883808Ishikawa Seiji / Kanshu / Lithium Ion Capacitor Gijutsu to Zairyo (Electronics Series)メディア：本/雑誌発売日：2010/10JAN：9784781302843リチウムイオンキャパシター技術と材料[本/雑誌] (エレクトロニクスシリーズ) (単行本・ムック) / 石川正司/監修2010/10発売
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エレクトロニクス材料・技術シリーズ 工藤一浩 シーエムシー出版ユウキ トランジスタ ザイリョウ ノ ヒョウカ ト オウヨウ クドウ,カズヒロ 発行年月：2005年07月 ページ数：189p サイズ：単行本 ISBN：9784882315100 工藤一浩（クドウカズヒロ） 千葉大学工学部電子機械工学科教授（本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです） 第1編 総論／第2編 評価（材料／電気物性／FET／薄膜形成）／第3編 応用（大面積センサー／ディスプレイ応用／印刷技術による情報タグとその周辺機器）／第4編 未来への技術（遺伝子トランジスタによる分子認識の電気的検出／単一分子エレクトロニクス） 本 科学・技術 工学 電気工学
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エレクトロニクスシリーズ 篠田傳 シーエムシー出版プラズマ ディスプレイ ザイリョウ ギジュツ ノ サイゼンセン シノダ,ツタエ 発行年月：2007年10月 ページ数：247p サイズ：単行本 ISBN：9784882316916 篠田傳（シノダツタエ） 篠田プラズマ（株）取締役会長、広島大学大学院教授（本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです） 第1章 総論（PDP産業の現状と将来展望／PDP技術の動向（フルHD技術、高効率・高精細度技術）／PDP放電・駆動原理 ほか）／第2章 PDP用部材・材料とPDP作製プロセス（PDP作製プロセス／PDP材料に関するシミュレーション／PDP放電に関するシミュレーション ほか）／第3章 製造・検査装置（プラズマディスプレイ用スクリーン印刷と印刷機／サンドブラストによる隔壁形成の歩み／PDP製造用スパッタリング装置 ほか） 本 科学・技術 工学 電気工学
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エレクトロニクスシリーズ 中村慶久 シーエムシー出版スイチョク ジキ キロク ノ サイシン ギジュツ ナカムラ,ヨシヒサ 発行年月：2007年07月 ページ数：310p サイズ：単行本 ISBN：9784882316947 中村慶久（ナカムラヨシヒサ） （独）科学技術振興機構JSTイノベーションプラザ宮城館長、東北大学名誉教授（本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです） 第1章 序論ー研究開発の発端・経緯・将来展望／第2章 垂直磁気記録の原理と特徴／第3章 磁気記録ヘッド技術／第4章 再生磁気ヘッド技術／第5章 垂直磁気記録媒体技術／第6章 垂直磁気記録用信号処理技術／第7章 情報ストレージへの応用／第8章 次世代高密度化技術 本 科学・技術 工学 電気工学
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シーエムシー出版エレクトロニクスヨウ フィルム 発行年月：2002年06月 予約締切日：2002年06月23日 ページ数：320p サイズ：単行本 ISBN：9784882313601 本 科学・技術 工学 電気工学
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城戸淳二 シーエムシー出版ユウキ イーエル ザイリョウ ト ディスプレイ キド,ジュンジ 発行年月：2001年02月 ページ数：400p サイズ：単行本 ISBN：9784882312840 城戸淳二（キドジュンジ） 山形大学 大学院理工学研究科 生体センシング機能工学専攻 助教授（本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです） 1 基礎（蛍光性色素／有機EL素子の動作機構 ほか）／2 材料（有機エレクトロルミネッセンス素子用アモルファス分子材料／ホール輸送性材料 ほか）／3 ディスプレイの開発（有機ELディスプレイの駆動法／モノクロ、エリアカラーディスプレイ ほか）／4 有機EL素子作製法、ディスプレイ製造（実験室レベルでの素子作製法および評価方法／真空蒸着連続成膜装置） 本書は有機EL素子の基礎から応用まで、材料からデバイスまで幅広くカバーできるよう編集している。
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ご注文前に必ずご確認ください＜商品説明＞＜商品詳細＞商品番号：NEOBK-2378315Kurashi to Hito Wo Mimamoru Mizu / Kurashi to Hito Wo Mimamoru Mizu Sen Shingu Gijutsu (Electronics Series)メディア：本/雑誌発売日：2019/06JAN：9784781314280暮らしと人を見守る水センシング技術[本/雑誌] (エレクトロニクスシリーズ) / 暮らしと人を見守る水2019/06発売
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エレクトロニクスシリーズ カランタル・カリル シーエムシー出版エルイーディー バックライティング ギジュツ カリル,カランタル 発行年月：2010年06月30日 予約締切日：2010年06月23日 ページ数：306p サイズ：単行本 ISBN：9784781302461 カリル，カランタル（K¨alil,K¨al¨ant¨ar） 日本ライツ（株）専務執行役員R＆Dセンター長（本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです） 総論 ディスプレイ用バックライト／第1編 液晶ディスプレイ用LEDバックライト／第2編 液晶ディスプレイ用ダイナミックLEDバックライト／第3編 バックライト用光整形技術／第4編 LED・EL光源／第5編 LED実装技術と放熱機構／第6編 LEDバックライト用光学フィルムと光学用樹脂／第7章 LEDバックライトの市場 本 科学・技術 工学 電気工学
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シーエムシー出版シンセダイ フラット パネル ディスプレイ ザイリョウ ノ シジョウ 発行年月：1997年11月 ページ数：353p サイズ：単行本 ISBN：9784882311935 本 科学・技術 工学 電気工学
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ご注文前に必ずご確認ください＜商品説明＞＜収録内容＞光デバイスにおける接着技術の重要性(総括)第1編 光デバイスの組立に使用される各種接着剤と接着基礎技術(光デバイス組立用接着剤各種光デバイスの製造プロセスにおける接着基礎技術)第2編 光デバイスの組立における接着・コーティング技術(各種デバイスの製造プロセス技術光通信用接着技術光ファイバ用ハードコート剤 ほか)第3編 評価技術(寿命、信頼性)(光能動部品の劣化と寿命予測光受動部品・接続部品の劣化と寿命予測光部品用光学接着剤の劣化と寿命予測 ほか)＜商品詳細＞商品番号：NEOBK-885266San Taji Shigeyuki / Kanshu Murata Norio / Kanshu / Hikari Device Niokeru Setchaku Zai to Setchaku Gijutsu (Electronics Series)メディア：本/雑誌発売日：2010/10JAN：9784781302706光デバイスにおける接着剤と接着技術[本/雑誌] (エレクトロニクスシリーズ) (単行本・ムック) / 三田地成幸/監修 村田則夫/監修2010/10発売
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 エレクトロニクスシリーズ 塩崎忠 シーエムシー出版アツデン ザイリョウ ノ キソ ト サイシン オウヨウ シオサキ,タダシ 発行年月：2008年08月 ページ数：246p サイズ：単行本 ISBN：9784882319542 塩嵜忠（シオサキタダシ） 奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科教授（本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです） 第1編 材料の特徴と製造方法（単結晶材料／セラミックス材料／薄膜材料／水熱合成法／高分子材料／非鉛セラミック材料／圧電薄膜）／第2編 先端的製造法（MEMSスイッチ／周波数制御通信分野）／第3編 分野別（センサー応用分野／アクチュエータ応用分野／動力応用・超音波機器）／第4編 EUの規制動向（欧州における電子部品の鉛規制状況と無鉛圧電材料の研究開発動向／日本の有害物質規制／新規電圧電材料と開発動向） 本 科学・技術 工学 電気工学
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英一太 シーエムシー出版ジセダイ エレクトロニクス パッケージ ギジュツ ト ザイリョウ ハナブサ,イッタ 発行年月：1998年05月 ページ数：244p サイズ：単行本 ISBN：9784882312147 本 科学・技術 工学 電気工学
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次世代平面ディスプレイFEDの現状と展望 斎藤弥八（1953ー） シーエムシー出版フィールド エミッション ディスプレイ ギジュツ サイトウ,ヤハチ(1953ー) 発行年月：2004年06月 予約締切日：2004年06月23日 ページ数：218p サイズ：単行本 ISBN：9784882314516 斎藤弥八（サイトウヤハチ） 名古屋大学大学院工学研究科教授（本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです） 第1編 FED研究開発の流れ（FED開発の歴史／電界放出現象／FEDの構造と動作／新しい電子源を用いたFED）／第2編 FED用冷陰極（金属マイクロエミッタ（Spindt型）／カーボンナノチューブエミッタ／横型薄膜エミッタ／ナノ結晶シリコンエミッタBSD／半導体トンネル陰極（MOSエミッタ）／MIMエミッタ／転写モールド法によるエミッタアレイの作製）／第3編 FED用蛍光体（電子線励起用蛍光体）／第4編 イメージセンサ（高感度撮像デバイス／赤外線センサ） 本書では、先ず第1編でFEDの基礎とその歴史が解説され、第2編でFED用電子源に関する最新の技術、第3編では基盤技術として電子源に次いで重要なFED用蛍光体、最終編の第4編ではFED以外の画像関連デバイスへの冷電子源の応用が述べられている。
本 科学・技術 工学 電気工学
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 エレクトロニクス材料・技術シリーズ 東木達彦 シーエムシー出版エキシン リソグラフィ ノ プロセス ト ザイリョウ ヒガシキ,タツヒコ 発行年月：2006年10月 ページ数：243p サイズ：単行本 ISBN：9784882315841 東木達彦（ヒガシキタツヒコ） （株）東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター半導体プロセス開発第二部リソグラフィ技術開発第三担当グループ長（本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです） 液浸リソグラフィーとは／液浸露光用塗布現像装置／レチクル技術／液浸リソグラフィの光学系／液浸露光装置の開発／液浸用レジストの開発／液浸用トップコート材料／液浸レジスト材料の評価／含フッ素樹脂のリソグラフィ分野への応用／偏光照明技術／高NA投影レンズの開発／次世代液浸露光用高屈折率液体の開発／次世代液浸リソグラフィの光学系／32mmハーフピッチに向けた今後のリソグラフィ展開 本 科学・技術 工学 電気工学
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ユビキタス対応の超小型要素技術と次世代大型要素技術 エレクトロニクス材料・技術シリーズ 西野敦 直井勝彦 シーエムシー出版ダイヨウリョウ キャパシタ ギジュツ ト ザイリョウ ニシノ,アツシ ナオイ,カツヒコ 発行年月：2006年07月 ページ数：295p サイズ：単行本 ISBN：9784882315742 西野敦（ニシノアツシ） 西野技術士事務所所長。
技術士 直井勝彦（ナオイカツヒコ） 東京農工大学大学院共生科学技術研究院教授（本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです） 第1編 総論／第2編 EDLCの材料開発／第3編 各社の開発動向／第4編 EDLCの新しい応用開発／第5編 擬似キャパシタ／第6編 次世代EDLCの展望と課題／第7編 次世代PーEDLCの展望と課題／第8編 海外の動向 本 科学・技術 工学 電気工学
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ご注文前に必ずご確認ください＜商品説明＞＜商品詳細＞商品番号：NEOBK-2390212Tatsumi Suna Masahiro / Kanshu Hayashi Akitoshi / Kanshu / Zenkotai Lithium Denchi No Kaihatsu Doko to Oyo Tembo (Electronics Series)メディア：本/雑誌発売日：2019/06JAN：9784781314198全固体リチウム電池の開発動向と応用展望[本/雑誌] (エレクトロニクスシリーズ) / 辰巳砂昌弘/監修 林晃敏/監修2019/06発売
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出荷目安の詳細はこちら内容詳細目次 : 第1編 エレクトロクロミック材料の開発（エレクトロクロミック材料の基礎と最新動向/ メタロ超分子ポリマー/ 有機・無機ハイブリッド薄膜/ ポルフィセン金属錯体を色素とするエレクトロクロミック薄膜材料/ 銀析出型マルチカラーエレクトロクロミック素子 ほか）/ 第2編 エレクトロクロミック材料の応用（酸化物エレクトロクロミック材料を用いたメモリデバイスの開発/ エレクトロクロミックレンズ/ 透明／白色（白濁）間での調光が可能なエレクトロクロミック方式のスマートウィンドウ/ 調光ミラー技術/ 紙でつくる電子ペーパー ほか）
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